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ITO溅射靶材生产工艺及参数介绍[2015-04-09]
一、溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下。 1.热等静压法    ITO靶材的热等静压制作过
鼎伟靶材厂家为您分析溅射不起辉的常见原因[2015-04-09]
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真空镀膜靶材中毒现象及处理方法[2015-04-09]
第一:靶面金属化合物的形成。 由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子,通常是放热反应,反应生成热必须有